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简介

概述

掩模尺寸:1、支持6025基板类型;2、Cr面朝上检测;(多层smif,自动上下板,6寸产能≤630秒/片;小Z+压电,20x物镜,ATF控压电)
检测模式:
1、抛光板
检测项:表面颗粒、划痕,脏污(平坦异物亦可捕获)
检测光源:375nm 激光光源(反射明场)
2、铬板
检测项:表面颗粒、划痕、针孔,脏污(平坦异物亦可捕获)
检测光源:375nm 激光光源(透、反射)

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