行为
支持 #4849
打开0.2-0.5um的漏检缺陷，需要进一步跟进光路调试计划
开始日期:
2025-06-17
计划完成日期:
% 完成:
10%
预期时间:
机台点位:
上海传芯Storm 3000U
描述
C-semi使用Mark对该类型缺陷取样打Mark，并使用AFM测量深度后Vp对该缺陷使用DIC进行测试
目前测试结果如下图，16.8nm高度的缺陷可通过DIC成像，但是低于此高度的缺陷无法被识别。
文件
行为
10%
描述
C-semi使用Mark对该类型缺陷取样打Mark，并使用AFM测量深度后Vp对该缺陷使用DIC进行测试
目前测试结果如下图，16.8nm高度的缺陷可通过DIC成像，但是低于此高度的缺陷无法被识别。
文件