由 谢延义 在 大约一年 之前添加. 更新于 12 个月 之前.
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描述
测试情况:1,掩模板:铬区聚焦稳定;玻璃区聚焦不稳定,且出现离焦较频繁2,晶圆:静止状态聚焦稳定;运动状态离焦量变化大,聚焦不稳定。
寄给厂商一块有图案掩模板,一块有图案晶圆残片,厂商进一步分析。
离焦量信号不稳定,玻璃区铬区边界聚焦模糊,达不到使用要求。
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