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简介

需求 #2708

周玉鹏 更新于 12 个月 之前

1.晶圆后期需要针对不同的光源,添加不同光源下所做平场校正结果 
 2.建议后期创建无图形或IRIS双面检测,设置好Z轴焦面0,0点默认作为mark点,中心点默认为参考die,die尺寸以中心点往外扩展(夹具中心就是0点位置,放片需要在中心点)

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