由 周鵬成 在 3 天 之前添加. 更新于 3 天 之前.
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描述
夹具不稳定,长时间使用后,掩膜版平整度会发生较大变化(夹具调好平整度到5μm以内,使用一定时间后,会变化到十几甚至二十几微米)导致扫图出现区域性的随机虚焦问题,需要结构定位问题点,并改进。
1、现场机台是对边夹持;2、解决方案:直接更换现有成熟方案对角夹持;
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