# 4.2.2 工具集,迪斯IRIS 项目,多recipe检测,部分升级 * 需求 #189: 增加线阵采图功能 * 错误 #747: 控制面板:曝光度显示与实际不符 * 功能 #823: 生成报表,弹出下列提示框,是否需要保留 * 需求 #1140: 线阵相机扫图工具 * 错误 #1152: 登录页有时插件显示不出来(偶尔出现该现象) * 需求 #1232: 创建晶圆 取消重置按钮,获取当前视口,只能通过线阵相机扫描获取图像信息 * 功能 #1277: OutDie和InDie对准参数从系统参数移动到对准步骤中 * 错误 #1437: 只有setup 界面可以 重置晶圆结构 * 功能 #1438: 面阵相机接口开发 * 错误 #1440: 采 golden 前 未将r轴重新置0,导致采图偏移 * 错误 #1441: 重启软件 有时出现x yz 坐标点一致情况,移动到参考点 调整Z轴高度 均没反应 * 错误 #1447: VIS4.3:后道拼接,缺失部分Die区域 * 错误 #1448: 中间区域不作为检测对象 但是会当作缺陷die给保存下来 * 错误 #1449: 新建setup 选中一个setup 新建 会将之前程式中的die尺寸复制出来 * 错误 #1450: 前道采集golden前 未将R轴相机初始化归0 导致采图异常 * 功能 #1451: Job类型增加校验当前Job是否完成的重写方法 * 支持 #1452: 检测页面左边map增加检片快捷键 上下左右 * 错误 #1454: 报表页面不关 查询条件不变的情况下 隔日做了新检测 查询数据还是以前历史数据 * 错误 #1455: 系统参数 脉宽设置 设置的值 未生效 * 功能 #1456: 主程序补完SelfCheck重写方法 * 错误 #1457: 前道采图 有时采图完成提示弹窗会被软件卡掉 * 错误 #1458: 切换了下job 没踩图 打开一个程式进入recipe 添加一下算法 点击返回按钮报错 * 错误 #1461: 软件放置段时间 进入到recipe 点击框选golden 页面弹窗报错 * 错误 #1465: CD测量 采集了Golden 但未选择检测die 检测未报错 也未自动结束 只能手动点击停止 * 错误 #1467: 聚焦方式选择默认 不聚焦 检测时 会提示 未做拟合聚焦 * 错误 #1468: 3d 传感器软件报错 * 错误 #1470: 采集完golden图,点击框选golden按钮 操作太快会引发重新 采集golden错误提示,将该提示框改成loading形式 * 错误 #1471: 反向条带补偿,晶圆模式与DB 模式 起始点位置不一致 * 功能 #1474: 运功控制面板改造 * 功能 #1475: 考虑将光源测试功能提取为公共功能 * 功能 #1476: 物镜切换补偿标定工具 * 功能 #1477: 设计开发ImageControl * 功能 #1478: 系统参数模块改造 * 错误 #1482: 光源亮度测试 光源类型 未改变bug * 错误 #1493: 正常结束,重扫超过次数,没有当作异常抛出 * 错误 #1494: 未作对准,采集golden 提示语不对 * 错误 #1506: 插件管理软件限制打开一个程序 * 功能 #1507: job模块管理界面,在recipes模块建议新增golden 预览图 * 错误 #1508: 对准和算法步骤自检时排除掉无图形的情况 * 错误 #1509: 无图形选择不聚焦时,z轴检测高度不对 * 错误 #1511: DB检测报错 版本VIS4204 * 错误 #1512: 岛类缺陷敏感度最小值为10,修改判断逻辑。 修改不满足条件提示语“10-100之间” 环境版本VIS4225 * 错误 #1513: ACS异常,点击软件停止按钮,进程没有结束 vis4225 * 功能 #1514: 夹具高度测量 * 错误 #1520: DB增加等待条带收集齐时间配置,DB扫描增加最大缓存条带限制 * 错误 #1522: DB存图功能添加 * 功能 #1523: CD二次配准增加开关 * 功能 #1524: CD测量Make0工具开发 * 功能 #1525: VIS 双面无图形检测 * 功能 #1526: 检测参数增加VG_Std_B相关参数,检测参数界面重构 * 功能 #1527: 系统参数增加【散射模型系数】参数, * 功能 #1531: 平均亮度工具开发 * 功能 #1533: CD测量光源配置保存到Recipe中 * 功能 #1534: 双面检测231环境测试 * 错误 #1535: 系统设置中,镜头参数【ATF曝光时间】不生效 * 功能 #1537: 修改结果处理界面,同时显示VG_Std_A和VG_Std_B缺陷图片 * 需求 #1538: 合并新的ImageControl * 错误 #1540: DB计算单元部署包无法检测 * 错误 #1541: DB-3Mark对准-修改读取参数的方法 * 功能 #1545: 26所2D、3D多Recipe检测 * 功能 #1546: 合并主干以及MultiRecipe分支至3D分支,合并计算单元主干更改至MultiRecipe计算单元分支 * 功能 #1557: MultiRecipe分支,MultiCam分支合并至3D分支后,进行测试 * 功能 #1561: 当对准点镜头选择20X,检测镜头使用3X,检测3个条带或者27个条带Core无法结束,使用3X做对准没有这种情况 * 功能 #1568: 修改图象工具,能够更广泛的适用于图像控件;替换Golden、亮度测试图像控件为新版控件; * 错误 #1569: 应用启动之后,自检结果与实际结果不符,后面更换夹具或样片需要可以量测 * 错误 #1570: web报表:图片拖动范围太大,需要限制 * 功能 #1575: CD中添加golden筛选功能 * 功能 #1577: SMIF功能开发 * 错误 #1579: 232灯箱自动熄灭 * 错误 #1582: 基片测量异常(平台或者PLC异常)怎么处理 软件重启恢复 再去测量 * 错误 #1583: 高度测量关闭后,Z轴限位设置暂时不考虑去掉测高功能情况 * 错误 #1584: 自检坐标设置测试 * 错误 #1585: DB模式到达负限位后,ACS没有异常提示 * 错误 #1586: PLC 掩模,晶圆 上报测高信号 逻辑修改 * 错误 #1587: 测高,固定自检位置 多次检测结果在26000um,在系统设置里面需要设置基于这个值上下区间在700um这个功能 * 功能 #1630: 双面检测部分功能优化及修改 * 功能 #1631: CalcAgent相关的小工具开发 * 错误 #1633: map图缺陷大小分布优化 * 功能 #1635: 索尔斯分支,对准步骤增加手动拖动辅助执行对准功能 * 错误 #1636: VIS4.3:12寸、10X晶圆后道检测计算单元闪退 * 错误 #1638: 测高,前提条件:夹具夹紧,软件未打开,然后再启动软件,acs计算的负限位会被自检的高度所替换掉。 * 功能 #1639: 使用SimpleCV替换旧算法 * 功能 #1640: 索尔斯分支,对准步骤配准算法替换为SimpleCV中的算法 * 需求 #1641: 当对准点脏污无法识别时,如何继续进行检测 合并至 功能 #1671 * 错误 #1642: 对于NG_D以及3D分支,对Core交互结构体修改引起的兼容性问题的处理 * 支持 #1643: WP-SOP-晶圆机台调试Checklist文档评审修改 * 需求 #1644: 套刻测量不规则矩形程式设计 * 支持 #1647: 协助技物所新片制作程式 * 错误 #1651: 测高,DB模式,ACS设置的负限位不对,显示的是正数值,导致z轴无法移动负限位 * 错误 #1654: 线阵扫描,删除 行列 参数 ,扫出图像后再新增一个保存图像功能 * 错误 #1655: 线阵扫描,删除 行列 参数 * 功能 #1658: 控制面板 排版优化 * 错误 #1660: db 3mark对准 ,数据准备在保存的时候 没有清掉删除的那个点,导致软件在获取dp文件还误认为是3个mark点 所以报错 * 错误 #1662: IRIS分支部分修改以及优化 * 错误 #1664: db模式,数据准备检测光源类型选择透射,vis检测需要获取dp文件检测光源类型,GDS对比图也要显示该光源类型 * 错误 #1665: 晶圆检测完成,map图用着不能选取点,也不能框选区域。 * 错误 #1666: 技物所测高,软件重启,自检高度没有日志输出 * 功能 #1667: 套刻测量,测量参数传递 * 错误 #1668: plc地址配置软件打不开 * 支持 #1669: cd测量分支 ,定位检测Die时加上Mark偏移 * 功能 #1670: MAP图双击Die移动功能修改 * 功能 #1671: 对准步骤InDie-Mark偏移逻辑和OutDie逻辑合并 * 错误 #1672: 套刻测量,配准失败时,点“跳过”后,检测结果显示cd测量失败 * 功能 #1673: 将被动聚焦插件移植到聚焦模块中 * 错误 #1681: DB检测的相机台阶数与晶圆需保持一致 * 错误 #1695: DB模式,当天检测完成,不关闭软件,隔天再去运行软件,报错 * 错误 #1696: 物镜没有添加被动聚焦参数,导致平台异常 * 功能 #1697: 索尔斯分支合并到主干 * 功能 #1698: 索尔斯分支中,对准等相关项目合并到Newmeasure_Merge中 * 功能 #1699: 索尔斯分支中,测量结果等相关项目合并到Newmeasure_Merge中 * 功能 #1700: 索尔斯分支中,测量等相关项目合并到Newmeasure_Merge中 * 功能 #1704: 执行对准结果,建议将对准结果弹窗置顶显示出来 * 错误 #1705: 拟合聚焦【清晰度】执行后,报“未将对象引用到实例” * 错误 #1706: 报表合并出错 * 错误 #1707: db缺陷未确认,查看报告,跳出两个提示窗口 * 错误 #1708: cd测量,找不到Mark * 错误 #1709: vis 4686 新包对准失败 * 错误 #1722: 由于图片PixelFormat不一致导致配准失败的问题分析 * 错误 #1723: 对准未设置参考Die,检测时页面应该作出提示 * 错误 #1724: 新增策略,未增加mark 执行对准测试等异常操作,直接页面弹窗详细策略执行信息 * 错误 #1725: 无图检测 ,设置mark 偏移,提示需要对准 * 错误 #1726: 缺陷检测 选择不存在的台阶数,页面没有提示信息 * 错误 #1727: 无图形没有设置参考点Z轴基准坐标,需要记录当前Z轴位置 * 错误 #1728: 不是默认的对准点策略,设置了MARK偏移,使用该策略,检测完成,平台定位没有加上偏移值 * 错误 #1729: 无图重新设置偏移,页面没刷新,没有将新的值赋予到输入框里 * 功能 #1730: 无图,页面需要支持参考点移动功能,便于切换不同镜头,调焦面 * 错误 #1731: DB检测,对准失败,提示要设置参考点 * 错误 #1732: 平均光源工具获取不到图片 * 错误 #1733: cd算法不能增加多图层 * 错误 #1734: 打开旧程式,设置完对准点,参考ide报错 * 错误 #1737: 无图检测报错 * 错误 #1738: 无图 主页 移动到mark点报错 * 错误 #1739: 双击点开/批处理启动计算单元能够检测,从Agent拉起的无法检测,提示缺少Core依赖项 * 错误 #1740: 数据准备其他项目引用系统参数,获取方法未更新 * 错误 #1741: 平台缩放为0,线阵采图路径规划会出现无限大值,软件未作提示 * 错误 #1742: 条带传输速度存在问题,20线程,平均10m/s(磁盘映射:服务器&主机间拷贝文件速度正常【光口】) * 错误 #1743: DB模式下采图,调用Core方法镜像图片,得出的图片全黑(暂时改为晶圆镜像图片方法) * 错误 #1744: 进入对准界面,R轴未归零,采集Mark位置不正确 * 错误 #1745: cd采完图片,标记的光源类型为乱码 * 支持 #1746: 旋转平台模式下,DB-拟合聚焦-Mark-自动生成Mark,计算后检测区域和实际检测区域相差90° * 错误 #1747: 控制面板旋转按钮可点击范围过小 * 功能 #1758: 对准界面、步骤不再与Setup类型关联 * 功能 #1760: 软件主界面顶部增加JOB类型标识 * 支持 #1764: 26所机台部署EFEM * 错误 #1765: CD计算单元重复输出无效日志 * 错误 #1769: 是否启用对准按钮关闭,设置参考die按钮需要释放出来 * 错误 #1773: 软件主页获取检测类型应该是recipes * 功能 #1774: 代码合并自主干后测试 * 功能 #1775: 代码合并自主干后测试-CD测试 * 错误 #1776: 搜索setup ,再打开job 报错 * 错误 #1777: 复制setup 粘贴后新建recipes 提示找不到该路径 * 错误 #1778: cd根据偏移添加点位,在map图上显示的位置不对 * 错误 #1779: cd设置的点在参考die的上面,检测时定位到了下面检测 * 错误 #1780: cd相对位置,定位有偏差 * 错误 #1782: 三叠纪分支:DB检测生产模式下SID为空问题 * 错误 #1783: 机务所机台,MicroScope插件配置界面打开失败 * 错误 #1790: 相机没有32台阶,点【确认】后,没有停止而是继续扫描 * 功能 #1792: 对准界面、逻辑的相关修改 * 功能 #1793: 旋转平台模式:提供标定平台旋转中心的工具 * 功能 #1794: 后道检测,增加不拼接的扫图逻辑 * 错误 #1797: DB检测线阵相机更新Binning以及平场参数耗时久,考虑是否异步执行 * 错误 #1798: VIS控制面板,拟合聚焦执行时会有文字提示,在窗口缩小状态下,文字会被遮挡 * 错误 #1800: 夹具面板移植到夹具模块中 * 错误 #1801: 被动聚焦参数设置修改 * 错误 #1802: 报表升级功能,生成的报表空白页没删除 * 错误 #1803: 申博删除一行数据导致此task前所有缺陷数据丢失 * 错误 #1805: 默认打开二次配准,套刻测量报错 * 功能 #1807: MultiAlignment分支合并到主干 * 功能 #1808: 被动聚焦,删除有关matlab引用 * 错误 #1813: VIS主干:对准步骤采集Mark后返回首页,再次进入后采集的Mark无法保存 * 错误 #1814: 被动聚焦初始化环境错误 * 支持 #1824: IRIS机台EFEM部署 * 功能 #1825: 后道不拼接分支:环境测试 * 支持 #1828: IRIS机台代码环境部署 * 错误 #1829: 软件调用不同镜头,没有调用MSG不同参数 * 功能 #1831: VIS主干:Job管理界面增加展示最近打开的Job功能 * 错误 #1835: 线阵扫图功能,扫描图像,更改亮度后,图像没更新还是之前的图像 * 错误 #1836: 控制面板,设置坐标,单位错误,应为mm * 功能 #1838: IRIS分支:扫图逻辑以及缺陷定位逻辑重构 * 错误 #1839: Ref_3ds中SimpleCV相关dll在编译前复制,导致相关dll不是最新版本。 * 错误 #1842: 26所:生产检测中,对准失败后,未能跳过当前片而是整个检测流程结束(此单关闭) * 错误 #1843: 使用历史记录打开job,程式里面的按钮不好使用,需等待几秒钟 * 错误 #1844: 再次进入recipe里面,golden预览功能不显示golden图 * 错误 #1849: 点击recipe,报错 * 支持 #1852: 232环境CD测量部署 * 支持 #1853: 索尔斯分支更新到最新版本 * 功能 #1854: 针对主机+服务器机台:主机共享盘名称改为 【Data】,服务器的CalcAgent服务安装时自动挂载此磁盘,默认盘符Z(计算单元需要修改DataPath配置文件)(此单) * 功能 #1856: 26所分支合并(VIS+CalcUnit) * 功能 #1857: IRIS分支:合并主干(此单关闭) * 功能 #1858: 索尔斯分支增加Setup、Recipe复制粘贴功能(此单关闭) * 错误 #1864: VIS4.2:重置晶圆结构后,Die行列发生改变,Recipe中保存的检测Die和晶圆结构对应不上,导致异常 * 错误 #1865: job管理页面,Setup复制粘贴用不了 * 功能 #1867: IRIS分支:切换主视口时,控制面板控制主视口灯箱、相机曝光、MSG等硬件 * 错误 #1868: VIS4.2:设置聚焦Die会导致MAP图上检测Die状态被清除 * 错误 #1875: IRIS分支:VIS关闭后,后台进程没有结束 * 功能 #1876: IRIS机台EFEM部署 * 功能 #1879: IRIS分支:修改所有对旧版本相机控件的引用,补充缺失的相机工具 * 错误 #1880: 参考点未设置,增加设置偏移die,报错 * 功能 #1883: setup复制粘贴完之后,能让它高亮显示,并且能在当前位置展示它 * 错误 #1884: IRIS机台EFEM长时间使用CPU占有率过高 * 错误 #1885: IRIS分支:光源问题处理 * 错误 #1887: VIS4.2:无图流程,无法检测 * 错误 #1888: VIS4.2:框选晶圆结构,点击不检测die按钮可以改变晶圆结构 * 错误 #1889: 晶圆结构发生改变,没有去掉检测状态 * 功能 #1890: IRIS分支:几个界面交互优化 * 错误 #1891: cd 没有加recipes检测状态 * 错误 #1894: db模式检测报错 * 支持 #1904: 索尔斯项目:CD测量策略更新 * 错误 #1905: EFEM 初始化顺序修改 * 错误 #1906: 检测完成,点击【对准设置】软件卡死,重启后对准数据丢失 * 错误 #1907: 多策略对准删除策略过快,默认策略标识消失 * 功能 #1910: IRIS分支:开发散射模型系数标定工具 * 功能 #1912: VIS4.2:对准模块的功能优化以及BUG修复 * 错误 #1914: 顶部系统设置按钮,需要控制只显示一个窗口,多个窗口打开,改了数值,会造成有的数据保存失败 * 错误 #1915: 对准框选roi,光源不回车,也会将数值保存进对准点中 * 功能 #1916: recipes页面,增加点击开始检测按钮 需要返回到主页面,并同时检测的功能 * 错误 #1917: 对准启用粗细两个对准点,再新增一个策略,提示如下策略1 精粗对准偏差过大 * 错误 #1918: 多recipes采集golden图 页面无响应 * 错误 #1923: 选中空白mark,点击移动,需要增加提示,不需要做回零动作 * 错误 #1924: 框选golden,区域框出边界报“内存不足” * 错误 #1925: 对准测试结果,提示语显示不全 * 功能 #1927: IRIS机台:SMIF部件更新 * 错误 #1928: 志和机台:EFEM调试 * 功能 #1930: VIS4.3:对准测试以及检测中对准使用SimpleCV替换MachineVision * 功能 #1931: CalcUnit4.2:合并至CalcUnit主干;App.confg增加ip字段,ServerHost以及数据库连接字符串都据此拼接 * 功能 #1932: IRIS分支:移植VIS4.3后道不拼接逻辑 * 功能 #1933: VIS4.3:增加多ROI工具 * 错误 #1934: 多reicpe检测,第一个recipe检测的图像是正常的,后面recipe检测的图像都是歪的 * 错误 #1935: 多recipes,第二个recipes检测,第一个条带显示不了条带图 * 支持 #1936: 索尔斯:增加ATF Reset按钮、增加控制大Z开关方式 * 错误 #1937: 旋转平台设备的片子,检测完之后 缺陷定位不准 * 错误 #1938: 旋转平台的片子检测完之后,缺陷定位review 需要重新对准 * 错误 #1939: 一楼志合设备 计算单元映射会莫名消失 * 错误 #1940: 志合设备,系统设置 去掉勾选主光路 ,3D框选算法roi,框选区域不对 * 错误 #1942: 3D检测 需要关闭主动聚焦按钮 * 错误 #1944: 索尔斯:1.增加镜头复位按钮 2.检测前关闭主动聚焦,z轴回零。 * 支持 #1945: 索尔斯:手动测量执行自动测量流程 * 功能 #1946: IRIS分支:开发光源插件,通过PLC点位控制 * 功能 #1947: IRIS:MAP图内部区分缺陷所属光组,增加按光组筛选功能 * 功能 #1948: IRIS:协调Core,测试无图形扫图、检测逻辑重构功能 * 错误 #1949: 3D检测,检测区域最下面一排die,扫出来的图片偏白。 * 错误 #1952: cd自动测量完成,手动测量某个点位后,在左侧map图上显示了点位并且位置不对 * 功能 #1953: 威码视读码器 组件 * 功能 #1954: 程序图标更新 * 错误 #1955: 当没有配置roi算法,执行RecipeMeasure后,再点OverlayMeasure,跳出的弹窗不对 * 错误 #1957: 替换测量后,用RecipeMeasure测量,找不到Mark时,点击【skip】后报错 * 错误 #1958: 志和机台:EFEM在上下片时,对平台未进行Reset操作。 * 错误 #1959: 一楼志合设备,设置自动曝光-1,框选对准mark点,会导致找不到对准点,需要在插件加延迟时间 * 功能 #1960: VIS4.3:CalcUnit升级.NET6.0,测试条带传输速度 * 功能 #1961: IRIS:EFEM中吹扫组件开发 * 功能 #1962: EFEM:生产模式中,循环检测功能开发 * 功能 #1963: VIS4.3:对准测试以及检测中对准代码合并 * 支持 #1965: 一楼好达机台:代码、运行环境部署调试 * 错误 #1966: 创建晶圆结构:map图右侧有几列扫描不出来 * 错误 #1967: 创建晶圆结构:Die的宽度大于一个条带,扫描时拼接不齐 * 错误 #1968: 创建晶圆结构:扫描过程中,误点【创建晶圆结构】后平台会停止运动 * 错误 #1969: 创建晶圆结构:红色边框超出视口,点【确认】会报错 * 错误 #1972: 点击程式recipes,页面出现错乱,golden图大小60M*5张图 ,总共300M大小 * 错误 #1976: 旋线阵对准完成之后,更换对准点需要提示用 户,等r轴归零再去选对准点 * 功能 #1978: IRIS:EFEM上片时,未检验平台是否有片子 * 功能 #1979: IRIS:EFEM流程中,增加吹扫和扫码组件 * 错误 #1980: ChinaVision在开启自动曝光后(无论之后自动曝光是否关闭),相机内部会去调整曝光时间和模拟增益 * 错误 #1982: job 复制过来,recipes没有默认勾选,打开该job 使用的是被复制的recipes * 错误 #1983: 复制个job 只有job名称被复制, 不显示setup 和recipes * 错误 #1984: 搜索框搜索Job名称 复制不能直接粘贴,需要再选中job * 功能 #1985: VIS4.3:统一VIS中NuGet包引用版本,解决安装包中dll版本问题 * 错误 #1986: 一个复制粘贴job 一个手动添加job 重名了,需要重名判断 * 功能 #1989: VIS4.3:增加晶圆检测中,点击右边缺陷列表,在左边Map图上,把缺陷所在Die选中的功能(此单关闭) * 功能 #1991: VIS4.3.3:对准功能的修改合并至4.3.3分支,修改配准失败后重试的逻辑(此单关闭) * 错误 #1992: VIS4.3安装包BUG:MSG插件初始化超时;计算尺寸提示“调用的目标发生了异常” * 错误 #1993: VIS4.3:拟合聚焦执行时报错,提示“数组的维度超过了支持的范围” * 错误 #1994: IRIS机台:循环检测60多次后,检测任务无法结束(仅关闭) * 错误 #1996: IRIS:EFEM生产模式下,连续register导致异常 * 错误 #1997: IRIS:EFEM上下片时,平台被禁用 * 功能 #1998: EFEM中,组件平台实现HasOne接口 * 错误 #1999: 两个Core依赖项导致的问题 * 错误 #2001: VIS4.3:旋转相机的逻辑下,旋转角度的问题 * 功能 #2002: VIS4.3:算法设置模块(主要是Golden采集)功能重构 * 错误 #2003: VIS4.3最新安装包中,几个Emcv相关Dll版本不对,应该为Refdll文件夹中的 * 错误 #2005: 新建的recipe,第一次采集golden后,出现提示”请先采集golden“ * 错误 #2006: 20x采golden图失败后,更改10x镜采图,会多采两张图 * 错误 #2007: 4.3新包,前道算法编辑保存后,报错 * 功能 #2008: 索尔斯:套刻支持具有高度差的图形测量 * 错误 #2009: 索尔斯:测量后,主动聚焦改回测量前的参数 * 功能 #2010: VIS4.3:多ROI工具功能完善 * 错误 #2011: 志合Efm机械手上片,夹具平台移出位置不对 * 错误 #2012: 志合EFM 机械手下片,程序报错 * 支持 #2017: 技物所机台:部署VIS、CalcUnit、DatPrepare新版本,处理相关问题 * 错误 #2018: 1.设备断电之后 ACS需要手动做归零操作,导致几个轴号读取的都是0轴 * 错误 #2019: 设备断电后,启动软件,切换镜头插件加载失败 * 错误 #2020: 旋转平台,r轴旋转角度限位修改 * 错误 #2021: 断电重启,会导致磁盘映射连接不上情况 * 错误 #2023: 志合EFM机械手下片,有时报Time out * 错误 #2024: 切换镜头超时,原因是由于比如 5X镜头切换还没有完成标志位,又发切换镜头指令,导致卡在那里,问题已反馈给电气部门 * 支持 #2025: 好达:部署EFEM * 错误 #2028: 扫描晶圆结构时报错 * 功能 #2034: VIS4.3增加图片工具:放大至显示像素 * 功能 #2035: Plugin分支:所有NuGet引用改到Reference中(此单废弃) * 错误 #2036: IRIS:小图的部分区域不属于当前Die,但是又存在缺陷,目前这部分缺陷被排除掉,缺陷图中没有画出,存在疑义(此单关闭) * 功能 #2037: IRIS:4.3拉出分支,合入IRIS代码,测试,代码评审,合并至4.3分支(此单关闭) * 错误 #2039: 启动检测软件,页面需要获取真空状态 * 错误 #2041: 3d根据die尺寸款选roi区域不对,框选的是全部 * 错误 #2042: 3d图毛刺优化 * 错误 #2044: 缩放3D比例调整 * 错误 #2045: 3D颜色 要有基准说明 * 错误 #2046: 3d 小的范围高低尽量一种颜色替代 * 错误 #2048: 扫描晶圆结构,点【返回】没加判断 * 错误 #2049: 用软件打开EFM-UI会影响到生产检测 * 错误 #2050: 志合生产检测完成后,lot 仓门不自动关闭 * 错误 #2051: 打勾选择高度差,再更新图片,golden上显示True或FALSE的标识不对 * 错误 #2052: msg没打开,recipemeasure检测任务会一直停在那里 * 错误 #2053: cd测量,开始测量第一个点位就停在配准那里 * 错误 #2060: IRIS:软件检测过程中,设备状态(DM0)不正确 * 错误 #2062: IRIS:单片上片扫码后,软件启动检测,WaferID不正确